桌面型原子层沉积系统

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公司名称巨力光电（北京）科技有限公司
品牌
型号
所在地北京市
厂商性质其他
更新时间2024/11/22 8:07:11
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产品详情

详细说明：

桌面型原子层沉积系统由哈佛大学纳米科学中心薄膜沉积工艺研究科学家Dr. Philippe de Rouffignac设计，基于多年纳米薄膜制备的丰富经验以及对科研工作者切实研究需要的了解，推出了此桌面型、高性能的原子层沉积系统。设备自2015年在CNS安装以来，到目前为止已有超过1500人次使用，人性化的设计、操作便捷。

设备资料

主要特点：
1. 腔室专为R&D设计和优化，样品尺寸达直径4’’,可升级至6''；
2. 反应腔温度可控范围：RT-350℃；
3. 前驱体源温度可控范围：RT-150℃；
4. 腔室处理压力可控范围：0.1-1.5 torr；
5. 源扩展多达5个；
6. 快速循环处理功能；
7. 气路化设计、腔体小型化设计；
8. 一分钟多达6-10；
9. 成熟的薄膜Recipes内置程序；
10. 触屏PLC控制；
11. 可配套手套箱使用；
12. 可配备臭氧发生器；

可处理材料：

MATERIAL CLASS	STANDARD RECIPES	RECIPES IN DEVELOPMENT	SYSTEM CAPABLE MATERIALS
Oxides (A_xO_y)	Al, Si, Ti, Zn, Zr, Hf	V, Y, Ru, In, Sn, Pt	Li, Be, Mg, Ca, Sc, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ga, Sr Nb, Rh, Pd, Sn, Ba, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd
Elementals (A)	Ru, Pd, Pt, Ni, Co	Rh, Os, Ir	Fe, Cu, Mo
Nitrides (A_xN_y)	Zr, Hf, W	Ti, Ta	Cu, Ga, Nb, Mo, In
Sulfides (A_xS_y)			Ca, Ti, Mn, Cu, Zn, Sr, y, Cd, In, Sn, Sb, Ba, La, W
Other Compounds	AZO (AL:ZnO), AxSiyOz ()A=Al, Zr, Hf	YSZ (yttria stabilized sirconia) ITO	Many others